本科毕业设计0bf-精品文档资料系列.docx
《本科毕业设计0bf-精品文档资料系列.docx》由会员分享,可在线阅读,更多相关《本科毕业设计0bf-精品文档资料系列.docx(28页珍藏版)》请在优知文库上搜索。
1、XI,ANTECHNOLOGICALUNIVERSITY本科毕业设计(论文)题目:磁控溅射制备高燧合金薄膜及其组织性能分析院(系)材料与化工学院专业金属材料工程班级14030102姓名房晓彤学号14030102122导师上官晓峰2018年6月西安工业大学毕业设计(论文)任务书院(系)材料与化工学院专业金属材料班14030102姓名房晓彤学与1403010212321.毕业设计(论文)题目:磁控溅射制备高嫡合金及其组织性能分析2.题目背景和意义:我国不同地区能源需求差异大,储能通过介质或设备把能量存储起来,在需要时间地区再释放出来,能够有效解决区域能源需求差异的现状,推动经济发展,因此需加快储能
2、产业的发展。典型的储能材料,如:钻金属氧化物,高比容量且高比电容,可以用在锂离子电池负极和超级电容器电极。实验通过磁控溅射制备薄膜的技术,将活泼且相对廉价的锲、铁、等金属元素和钻用氧气反应磁控溅射法制备具有储能作用的高部合金薄膜,能够提高材料结构稳定性、导电性,材料倍率性能、循环稳定性等,具有极大的研究意义。3.设计(论文)的主要内容(理工科含技术指标):(1)通过射频磁控溅射和氧气反应射频磁控溅射的方法获得COCrFeNi高嫡合金薄膜;(2)研究射频磁控溅射和氧气反应射频磁控溅射这两种方法获得CoCrFeNi高燧合金薄膜的组织及性能;(3)探究射频磁控溅射工艺参数(溅射功率、基底温度和溅射时
3、间)对薄膜的微观组织结构、表面形态,致密度及厚度的影响规律。4 .设计的基本要求及进度安排(含起始时间、设计地点):设计地点:西安工业大学材料与化工学院工科3号楼,进度安排:(1)20”年1116周:熟悉课题背景,查阅文献资料,拟定实验方案:(2)2017年17-18周:开展实验研究,撰写开题报告;(3)2018年1-8周:开展实验,撰写中期检查报告;(4)2018年9-14周:数据处理与分析;(5)2018年15-18周:撰写毕业论文,准备毕业答辩。5 .毕业设计(论文)的工作量要求实验(时数)或实习(天数):150天图纸(幅面和张数):王其他要求:字符数15000以上指导教师签名:年月日学
4、生签名:年月日系(教研室)主任审批:年月曰磁控溅射制备高牖合金薄膜及其组织性能分析摘要高燧合金是目前有前景的新型合金,同时它的优异性能为高燧合金作为涂层或薄膜材料奠定了基础,但有关高峭合金薄膜的制备和性能研究却不多。在本论文中,选择CoCrFeNi高燧合金为靶材,通过反应射频磁控溅射和射频磁控溅射的方法制备高端合金薄膜,研究它的制备工艺,以及并对其微观组织结构及性能进行分析。制备得到了表面致密、光滑、均匀的COCrFeNi高端合金薄膜,通过XRD、AFM、SEM以及纳米压痕仪等分别检测了硅(Si)基底上沉积制备的CoCrFeNi高燧合金薄膜的结构、表面质量、表面形貌和厚度以及硬度值。通过改变溅
5、射功率、衬底温度和溅射时间等工艺参数,分析镀膜工艺对薄膜表面形貌和厚度的影响规律。关键词:磁控溅射;高燧合金薄膜;表面形貌;厚度MicrostructureandpropertieshighentropyalloythinfilmsweredepositedbymagnetronsputteringAbstracHighentropyalloysasapromisingnewalloy,andthesametime,itsexcellentpropertiesofhighentropyalloyslaidastrongfoundationasacoatingorfilmmaterial,but
6、thedepositionandpropertiesresearchofhighentropyalloysfilmsisfew.Inthisexperiment,CoCrFeNihighentropyalloysischoosenasthetargetmaterial,highentropyalloythinfilmsweredepositedbyRadiofrequencymagnetronsputteringandreactivemagnetronsputteringmethod,thedepositiontechnology,MicrostructurandPropertieswillb
7、estudied.High-entropyCoCrFeNialloythinfilmswerepreparedbymagnetronsputteringtechnique.Thethinfilmsurfacewasverycompate,smoothandhomogeneous.First,AFM,XRD,SEMandnano-indenttionwereusedtocharacterizethestructure,surfacequality,surfaceappearance,thickness,andhardnessnumberofCoCrFeNihighentropyalloyFilm
8、sdepositedonthesilicon(SI)substrate.Thentheparameterofsputteringpower,substratetemperatureandsputteringtimewerechangedtostudytheinfluenceofdifferentcoatingteachniqueforthethicknessandsurfaceappearanceofthefilms,andanalysisthepossiblecauseoftheselawswereformedbySEMdetection.Keywords:magnetronsputteri
- 配套讲稿:
如PPT文件的首页显示word图标,表示该PPT已包含配套word讲稿。双击word图标可打开word文档。
- 特殊限制:
部分文档作品中含有的国旗、国徽等图片,仅作为作品整体效果示例展示,禁止商用。设计者仅对作品中独创性部分享有著作权。
- 关 键 词:
- 本科 毕业设计 bf 精品 文档 资料 系列
