功率器件用Φ150mmn型碳化硅衬底_SJT11865-2022.docx
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1、ICS29.045CCSH83中华人民共和国电子行业标准SJ/T118652022功率器件用15Omnln型碳化硅衬底150mmn-typesiliconcarbidesubstrateforpowerdevices2023-01-01 实施2022-10-20发布中华人民共和国工业和信息化部发布涛、杨世兴、房玉龙、李诋、瀚天夭成电子科技(厦门)有限公司、 中国电子科技集团公司笫四十六研ffSJ1本文件按照GBfr1.1-2020标准化工作导则第1部分:标准化文件的结构和起草规则的规定起草。请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。本文件由中国电子技术标准化研究
2、院归口本文件起草单位:山东天岳先进科技股份有限公司、中国电子技术标准化研究院、中国电子科技集团公司第卜三研究所、中国电子科全球能源互联网研究院有限公弄究所、东莞市天域半导体本文件主要起草I赞、冯浅、杨霏、:功率器件用150mmn型碳化硅衬底1范围本文件规定了功率器件用150mmn型碳化硅(SiC)衬底的术语、要求、检验方法、检验规则、标 志、包装、运输和储存。本文件适用于经抛光后制备的150 mm n型SiC衬底,晶型为4H.广不注日期的引用文件,;批检验抽样计划导体躯语子浓度划历法M表面质量的测试方法0:适用于本文件。,3 :,脚,:碳化徒化硅化硅;荧光光谱测第一部分:20212014 碳硅
3、单晶片平整单晶晶向的测试方法电阻测试方法量方法2规范性引用文件下列文件中的内容通过 仅该日期对应的版 文件。4DlNFO。其中,注日期的引用文件, 有的修改单)适用于本GB/T GB/T GB/T GB/T GB/T GB/T GB GB GBGBGB/T GB/T GB/T SJ/T SJ/T SJ/T SJ/T282661111501150311504YS/T 26 硅片i3术语和定义检验程序第1部分:按接收质量限(A谕长度测量方法直径测试方懿品晶型的测试方法GB/T 14264 和 GB/T 306562014 界Oi 3.1碳化硅衬底 silicon carbide substrate
4、从碳化硅单晶经切割、研磨、抛光、清洗等加工步骤制备的符合外延要求的圆形衬底。3.2合格质量区fixedqualityarea(FQA)衬底的合格质量区是扣除边缘去除区的剩余区域,衬底参数在这一区域被测量并提供。150mmn型SiC衬底边缘去除区宽度为3mm.3.3可用面积totalusablearea(TUA)在合格质量区内满足产品质量要求的区域的总面积。3.4贯穿型螺位错threadingscrewdislocation(TSD)货穿型螺位错(简称TSD)是位错线沿C轴方向延伸的螺位错,其伯格斯矢量与C轴平行。经熔融氢氧化钾腐蚀后显微镜观察,腐蚀坑呈现六边形形状。3.5贯穿型刃位错threa
5、dingedgedislocation(TED)贯穿型刃位错(简称TED)是位错线沿C轴方向延伸的刃位错,其伯格斯矢量与C轴垂直。经熔融氢氧化钾腐蚀后显微镜观察,腐蚀坑呈现近圆形形状。3.6基平面位错baseplanedislocation(BPD)基平面位错(简称BPD)是位错线延伸方向垂直于c轴的位错。经熔融氢氧化钾腐蚀后显微镜观察,腐蚀坑呈现贝壳状形状。4分类按照GB/T306562014的规定,150mmn型SiC衬底分为三个等级:工业级(简称P级)、研究级(简称R级)和试片级(简称D级)O5要求5.1几何参数SiC衬底的几何参数应符合表1的规定。表1几何参数序号检验项目单位要求1直径
6、及偏差mm1500.22主参考面长度及偏差mm47.51.53主参考面取向(示意图见图I)11204主参考面取向偏差一55激光标码位置一球面主参考面上方6正交取向偏离.一57厚度及偏差Hm350258总厚度变化m109局部厚度变化(IommXlOmm)m210翘曲度m4011弯曲度(绝对值)mW2512粗糙度Ra(10m10m)nm0.2Si面网图1主参考面示意图5.2边缘轮廓衬底边缘轮廓的5. 3表面线偏向11201/向(4熟SiC布5.4表陷应2的规定。SiC序号尢无无长度、宽度均0.5六方空洞5%面积WO. 1%划痕倍宜检,ll8条4衣面沾污无5金属表面污染6可用面积比例280%70%2
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