第4章潘场效应管放大器.ppt
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1、 从参与导电的载流子来划分,从参与导电的载流子来划分,它有它有自由电子导自由电子导电的电的N沟道器件沟道器件和和空穴导电的空穴导电的P沟道器件沟道器件。场效应晶体三极管是场效应晶体三极管是由一种载流子由一种载流子(多子)(多子)导导电的电的、用输入电压控用输入电压控制输出电流制输出电流的半导体器件,的半导体器件,具有具有输入阻抗高,温度稳定性好的特点。输入阻抗高,温度稳定性好的特点。按照场效应三极管的结构划分,有按照场效应三极管的结构划分,有结型场效应管结型场效应管和和绝缘栅型场效应管绝缘栅型场效应管两大类。两大类。器件外形:器件外形:N基底基底:N型半导体型半导体PP两边是两边是P区区G栅极
2、栅极S源极源极D漏极漏极一、结构一、结构导电沟道导电沟道PN结(耗尽层)结(耗尽层)4.1 结型场效应管结型场效应管:4.1.1 结构和工作原理结构和工作原理PNNG(栅极栅极)S源极源极D漏极漏极P沟道结型场效应管沟道结型场效应管DGSN沟道结型场效应管沟道结型场效应管NPPG栅极栅极S源极源极D漏极漏极DGS符号:符号:二、工作原理(以二、工作原理(以N沟道为例)沟道为例)当当 UDS=0 V时:时:UGSDGSNPP*若加入若加入U UGSGS 0,PN 0,PN结反偏,结反偏,耗尽层变厚耗尽层变厚*若若U UGSGS=0,=0,沟道较宽,沟道电阻小沟道较宽,沟道电阻小沟道变窄,沟道电阻
3、增大沟道变窄,沟道电阻增大*若若U UGS GS=V=VP P(夹断电压)时(夹断电压)时沟道沟道夹断夹断,沟道电阻很大,沟道电阻很大|UGS|越大越大,则耗尽区越则耗尽区越宽,导电沟道越窄。宽,导电沟道越窄。但当但当|UGS|较小时,耗尽区宽较小时,耗尽区宽度有限,存在导电沟道。度有限,存在导电沟道。DS间相当于线性电阻。间相当于线性电阻。沟道沟道夹断夹断时(时(夹断电压夹断电压VP),耗尽区碰到一起,耗尽区碰到一起,DS间被夹间被夹断,断,这时,即使这时,即使UDS 0V,漏极电流漏极电流ID=0A。加入加入U UGSGS使使沟道沟道变窄,该类型效应管称为耗尽型变窄,该类型效应管称为耗尽型
4、漏源电压漏源电压V VDSDS对对i iD D的影响的影响 随随VDS增大,这种不均匀性越明显。增大,这种不均匀性越明显。当当VDS增加到使增加到使VGD=VGS-VDS=VP 时,时,在紧靠漏极处出现预夹断点。在紧靠漏极处出现预夹断点。当当VDS继续增加时,预夹断区向源极方向伸长继续增加时,预夹断区向源极方向伸长。电阻电阻增增大,大,使使VDS增加不能使漏极也增大,增加不能使漏极也增大,漏极电流漏极电流 iD 趋于饱和趋于饱和。*在栅源间加电压在栅源间加电压V VGSGS,漏源间加电压,漏源间加电压V VDSDS。由于由于漏源间有一电位梯度漏源间有一电位梯度V VDSDS漏端耗尽层所受的反偏
5、电压为漏端耗尽层所受的反偏电压为VGD=VGS-VDS源端耗尽层所受的反偏电压为源端耗尽层所受的反偏电压为VGD=VGS 使靠近漏端的耗尽层比源端厚,使靠近漏端的耗尽层比源端厚,沟道比源端窄,故沟道比源端窄,故VDS对沟道的影对沟道的影响是不均匀的,使沟道呈楔形,响是不均匀的,使沟道呈楔形,沟道夹断前,沟道夹断前,iD 与与 vDS 近似呈线性近似呈线性关系。关系。4.1.2 4.1.2 伏安特性曲线及参数伏安特性曲线及参数特点特点:(1)(1)当当vGS 为定值时为定值时,管管子的漏源间呈线性电阻,且其子的漏源间呈线性电阻,且其阻值受阻值受 vGS 控制控制,(,(iD 是是 vDS 的线性
6、函数)。的线性函数)。(2)管压降管压降vDS 很小。很小。用途:用途:做做压控线性电阻压控线性电阻和无触点的、闭合状态的和无触点的、闭合状态的电子开关电子开关。条件:条件:源端与漏端沟道都不夹断源端与漏端沟道都不夹断VVPGSVVVPGSDS(1)可变电阻区)可变电阻区1、输出特性曲线:、输出特性曲线:C CV VDSDSD DGSGS)(V(Vf fi i(动画2-6)用途用途:可做可做放大器放大器和和恒流源恒流源。(2 2)恒流区)恒流区:(又称饱和区或放大区)又称饱和区或放大区)VVPGSVVVPGSDS条件条件:(1)源端沟道未夹断源端沟道未夹断(2)漏端沟道予夹断漏端沟道予夹断21
7、VvIiPGSDSSD (2)恒流性:恒流性:输出电流输出电流 iD 基基本上不受输出电压本上不受输出电压 vDS 的影响。的影响。特点特点:(1)受控性:受控性:输入电压输入电压 vGS 控制输出电流控制输出电流(3)夹断区)夹断区:用途:用途:做无触点的、做无触点的、接通状态的接通状态的电子开关电子开关。条件:条件:整个沟道都夹断整个沟道都夹断 VVPGS(4)击穿区)击穿区VVDSBRDS)(当漏源电压增大到当漏源电压增大到 时,漏端时,漏端PN结结发生发生雪崩击穿雪崩击穿,使,使iD 剧增剧增的区域。其值一般为的区域。其值一般为(20 50)V之间之间。由于。由于VGD=VGS-VDS
8、,故故vGS越负越负,对应的对应的VP就越小。管子就越小。管子不能在击穿区工作不能在击穿区工作。0iD特点:特点:2、转移特性曲线、转移特性曲线CVGSDDSVfi)(输入电压VGS对输出漏极电流ID的控制msgdvdivimQGSDQGSD/结型场效应管的的特性小结特性小结结型场效应管 N沟道耗尽型P沟道耗尽型4.3 4.3 金属金属-氧化物氧化物-半导体场效应管半导体场效应管 绝缘栅型场效应管绝缘栅型场效应管(Metal Oxide Semiconductor)MOSFET N沟道 P沟道 增强型N沟道 P沟道 耗尽型增强型增强型 (N沟道沟道、P沟道沟道),VGS=0 时无导电沟道,时无
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- 场效应 放大器