GB_Z 43684-2024 纳米技术 光栅的描述、测量和尺寸质量参数.docx

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1、ICS07.120CCS1.(MGB中华人民共和国国家标准化指导性技术文件GB/Z436842024/IECTS62622:2012纳米技术光栅的描述、测量和尺寸质量参数Nanotechnologies-DeSeriPtion,measurementanddimensionalqualityparametersofgratings(IECTS62622:2012,NanotcchnologicsDescription,measurementanddimensionalqualityparametersofartificialgratings,IDT)2024-03-15发布2024-10-01

2、实施国家市场监督管理总局国家标准化管理委员会引力iv1范阳I2规范性引用文件I3术语和定义I3.1 基本术语I3.2 光利相关术语33.3 光概的种类53.4 光栅质负参数术语73.5 衣征光榻的测珏方法类别94缩略语IO5光榔酸准和质fit表征方法105.1 概述105.2 全局方法IO5.3 局部方法5.4 混合方法5.5 各种方法的对比5.6 光梯特征的其他偏差5.7 光榭顷在表征的逑波算法6光榔交征结果的报告6.1 通则6.2 光栅规格6.3 校准程序156.4 光幡版双冬鼓15附录A资料性）背景信息和示例16附录B（资料性）布拉维格子24参考文班27纳米技术光栅的描述、测量和尺寸质量

3、参数1本文件界定了以光栩特征与标称位置策差来解择光棍的全局和同新质奴装数的通用术语，并提供了测定参数所用的测量与评价方法分炎的指南，以及在纳米技术的不I可应用领域保证生产和使用光栩质Ja的指南.本文件所定义和描述的方法适用于不同种类的光栅,但本文件重点关注一维（1Di和二推（2D）光序,以便于纳米技术领域中涉及光棚尺寸质里：冬数表征的制造商、用户和校准实验室之间的使用。2提范性引用文件下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成木文件必不可少的条款其中.注日期的引用文件,仅该日期对应的版本适用于本文件：不注日期的引用文件,其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件.GB/T30MI.12014纳

4、米科技术语第1部分：核心术语（ISO/TS80004-1:2010.IDT）ISO/IEC17025检测与校准实验室能力通用要求（GeneraIrequireaentsfortheCoMPetenCeoftestingandcalibrationlaboratories（注：Grr27025-2019检测和校掂实验富能力的通用要求（ISO/IEC17025:2017,W3术诏和嵬义下列术语和定义适用于本文件。3,1*1.1.lWfiE依IIUrr参考一基准而、具有明确的不同于边界以外区域的物理相性（鎏数）的一个连续边界内的区域.示睇桂底上f具有梯形横战（何的阴,见图I.*ra三1*境魅性的示例

5、注1：该定义改写EiSEMIP35.注2:一般恸况下,特征是三维物体,它有可能是蜗米物体（定义见GB打305M.1-2014,25）.特征R仃不同的形状,例城t、浅、槽等；可电朝称的或窜对移的；材料特出押知能相同或不同：叫蛾“躯确成掂底内什面教为“楸的征注3:术讲“几何特征”通常定义为点、见17IaH:2011.3.1.2SMreferenceplane用户定义的包含特征坐标系的近蚁基底衣面的平面.注；谖定义改写自SEMlp35,X1.3特征坐标系feaureCoonlilUIIeSyMenl坐标系coordinatesystem将基准面定义为x-y平面的笛卡尔坐标系.共X柏由E光棚方向定义,

6、Kl点由指定的参考位巴定义.注1：通常，选择特定特征的位而作为坐标系的原点,例如一维光WHID光播）中的第一个特征，或者:维光l（2D光栅）中左下角的特征.注2：也能够通过分析所有关注的特征位置来定义原点，例如以一堆光MHlD光）在X方向上所有位艮的平均俵作为除点.对广维尤福（2D光栩）.原点能通过对二维光栅（2D光Wf）的所有特征鱼SUx和y位置的破小乘网”1推介案定义.因而允许原点平移以及整个一堆无榭（2D光栅）旋转（即多点对准.在此t斤况R特征小标票的原点不再对应于某一特定持证.注3：原点也能选挣为基准面内指定的对准特件或蒋助带祉的位H注4:对于用成光栅,将JE刖标系可为报%标系re或N

7、坐标系r*z定义，X1.4特征图案featurepattern特也的奥合，由特征的数量、类理和位比规定，示倒，不同秃型特征图案的示例见1也，a双十字咕b）IW杼H字c）不加码聃SllE注：不同种类的特征通过不同的排列方式形成特征图案.这些特征困案可於相对筒半，如两个正交的我特征组成的他十字结构：也可能M杂，如以十字结构或线加列十字；或在更发杂的间隔不规则的我特征.2抬征图案示例11.5ItCE位量featurepositionxi,yitzi相对于Ift定坐标系.N个特征中的弟i个特征的指定点投影刎范准面上的位置坐标.注1：对于TMMKUMhfl设光IB方向即单位长度上的光棚特征致妆最大的方向

8、为X方向,则匕要关注特征的X位贸.而对于二维光极（2D光榭），关注其X和y位置.对于这两类光榭.假i殳基准面已经1.j测址仪器的坐标轴对池的俯况下，特征的Z位配通常不重要，注2:根据通泽的特征位置评价标准(见注3.被测的特征位置取决于所用测量仪器与特征特性的相互作用,如我形孤尺寸QlH料特性，注3：匕征位:竹的冽定通帮根r对特JE显循图像的分析。能用不同的方式分析显微钝图像伯号以aw定持证位置.多数情况下关注特征的中心位w该位置能通过计口均心或制定特征的左右边缘的平均但等方法测定.注4：如果仅关注特征的某你分.例a特征的边缘位置.则相应边缴Hl的侧定宜仪基f材很中所关注的部分.渤:上述特征位置

9、的定义也能用用于特征图案.注6:如果分析角度光NhM极坐标r.tp或柱坐标rq斤利于衣示特征位园.3.1.6楙E何的距*distancebtvMxi1注2:My珞准面中两个连续特征之间的矩禽d通常为，d=7(a:-x;-l)2+(y;-y-I)2注3:在:.y:.;和xH.y-l.-l位置的两个连续特征之间的距国d一般情况为d=7(底2抨7芋芋平珀2-抨一注4:通常关注特征中心位JJ之何的距离.燃而，某些脩况下也关注郴E边簿位置之向的距离。3.2光相美术甯光gratingH书冏期性间蠲的相同特征的集合.注1:在衍射光学词汇(MjsOl9902:2019,&3,1.2)中，光棚定义为“光学用途的

10、周阴性空向结构”。在本文件中，光HM、取于光学用途.注2：通常光楣柑邻柑同特征之间的距唐与其尺寸的比率接近1.但本定义并不局限此类情况，还包括所谓的Hi改光册，因而期则上也包括找她1.注3:仇然本七件1.BJ针对周期性光精，但是光柳质量等效也比用JII周期光Wh如IM啾光WK见ISO15902;2019.X1R2),但对于特征也置数据的空间浊波方法，可能会存在限制.注4：有时个比榄能够分成几个具有不同特征的子无根.3.2.2NEpitchP光棚相邻的特征问的即掰.注】:通常，特征中心Gtss川F测定间距.在某些情况下，一对特征曲相I，；地绿之间的即磔也MF测定向即依.注2:该定义与SEMlP3

11、5中规定的间距定义一致,3.23标称间更nminulpitchPmo光榭块格衣给出的例期间型(fl.3.2.4光41特征我numberog11)tin:XaturesN;关注方向上光槌的所有相同特征的总和.注：对于理边界加施长然而，对也正的&3光的，奥3.3.1TMMi1DETuting特征在M准面内仅沿一个方向Ift复的光播示面啪（ID）找光栅的示例见图3.丁瀛和F特的角度偏差为P的理MU）光榴d）局部间距变化且与仪汨扫描他不一致的ID光椎P光杼的方向上定义间距.3T(1Wtl光示例112二光2DKndinK特征在葩准面内沿两个不平行方向更支的光Wh示例.二言光栅（2D光橙）的小例见图I.a

12、）理念2D光棚b）两个方向的局部间距变化的2D光蝴,l三C）与仪蜥躯标引符号掰h存在诙直度屣S690）、两个方向间距不等且方向与仪3h和y扫搐轴不一致的2D光知PX_JttBWx方向上定义间距：Py光州的y方向上定义问跖“注1:通常两个方向名义上相互垂直，例如沿X和，方向.注2:二维光WH2D光棚）的垂N度偏处W4.13和娄学文献5中的描述BB4二光（21）光）示例13.3*Jfc31）grating特征在包含施Jft面的三个非平行方向近复的光棚,注1：通常三个方向名义上相互垂H，例如沿X、，和X方向.注2:三维光栅（3D光榭）光榭的个示例是3D光了词体.3.3.4角度光梅angulargra

13、ling在第准面内沿IW周方向住伸的光梯.注1：多数侪况下角光榴在2nrad（36G）的整个角度更惧内延伸，叩角度光棚的第一个和最后一个特征是相铝特征.注2:角度光榭也称为径向光相.13.5复杂光出CiHnpIexgrating在关注的方向上具有一个以上标称何距值的光册一一光栅特征数显14.10Mttft椽拗方IMHtrelativedeviationrcaIineerity.f4,nanzv(相对于光粉标称长段的线性度均方根采壁.计完如下:式中：1.ni.ms1.iixxnS1.n1.md1.n1.msZ1.nom光榔所有特征的蝶性度均方根偏注;-光极的标称长度.3.4.11直度偏装devi

14、ationf11nOrtlingonalityh二维光栅或三维光期与垂直方向的标称tfin/2rad(90)的采汇.注：垂自度也经常创U作正交性的同义词.3.4.12i%BMMHIfilteredgratingdeviationt11Xy(.P)用淤波后的特征位置倒走值测定3.4中定义的光栅偏差：6Xy(cf,P)其中：X通用符号，对特定情况用3.4中定义的叁数之一代为；Y通用下标符号，对特定情况用3.4中定义的指数之代背：F通用上标符号,用合适的术语家代替,明隔地描述了用于分析光榔特征位Si偏差的泄波稣法的特性；.所用泄波器的临界造波长度的&数：谑波器特性的附加(可选)参数：P所要分析的泄波数据的频谓部分的参数,Ml1.P代衣低通.HP代表高通,或者BP代表带通.示例1：如果在使用临界波长.的任甑滤波前法F后分析光概的特征位置(W差&并11将岛通抑性用原始数据，则晚后的特征位置麻翱UUJ(P)表示。示耽如果依IaM獭的情况卜.光栩与我性度的相对均方根偏雉6Uinz是有意义的，将具郁:佩烟泄波备特性I1.也设极止波长为80nm的沙波器应用于原始数据,淀波后的税性度相对均方根%关应表示为r1.n1.