广东省职业技能等级证书认定考试 29.液晶显示器件制造工（液晶显示器件阵列制造工）理论知识评价要点.docx

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1、液晶显示器件制造工（液晶显示器件阵列制造工）中高级理论知识评价要点液晶显示器件制造工（液晶显示器件阵列制造工）（中级）理论知识评价要点注：根据国家职业技能标准，理论考试时间为90分钟，技能考试时间不少于160分钟。一、基本要求（权重比例20%）（一）职业道德1、职业道德基本知识001职业道德的基本内涵002设备文明程度体现方式003爱岗敬业的定义004职业道德的来源2、职业守则001诚实守信的定义002遵纪守法的基本要求003职业人格的定义004奉献社会定义005爱岗敬业的基本要求（二）基础知识1液晶显示器件基本知识OOl液晶的特性及种类用002液晶显示器的基本结构003液晶显示器的显示原理0

2、04液晶显示器件的种类005液晶显示器件的基本特性006液晶显示器件的主要材料007液晶显示器件的基础制造工艺008液晶显示器件制程不良的判定及预防方法2、净化技术基本知识001净化间的特点及净化级别002净化间的要求及规章制度3、职业卫生及安全生产知识001设备安全操作规程002净化环境作业的安全操作规程003材料使用安全知识004化学品使用安全知识005职业卫生要求4、质量管理知识001净化环境作业的安全操作规程002质量管理的法规与方法5、环境保护知识001生产废液或气体的排放与处理规则002固体废弃物的处理规则6、相关法律、法规知识001中华人民共和国劳动法相关知识002中华人民共和国

3、劳动合同法相关知识003中华人民共和国安全生产法相关知识二、相关知识要求（权重比例80%）（一）玻璃基板清洗与成膜1、清洗001紫外灯相关知识002常压等离子相关知识003毛刷相关知识004超高压微细颗粒水喷射压力工作范围005超高压微细颗粒水喷射清洗范围006清洗管路处理相关知识007毛刷转速相关知识008微细颗粒水喷射清洗相关知识009风刀压力相关知识010风刀材料相关知识Oll静电去除相关知识012清洗工艺基础知识013清洗原理及技术要求014清洗异常玻璃基板的处理方法015清洗设备基础知识2、成膜001本底真空相关知识002腔体分子运动相关知识003分子自由程相关知识004等离子相关知

4、识005机械泵相关知识006机械泵抽气范围007罗茨泵相关知识008罗茨泵结构009分子泵相关知识01()分子泵原理Oll分子泵工作范围012靶材电源相关知识013工作气体相关知识014真空测漏相关知识015动密封相关知识016静密封相关知识017真空度测量方法相关知识018冷凝泵相关知识019机械手取片精度相关知识020真空测量相关知识021薄膜附着力相关知识022成膜缺陷相关知识023腔体洁净度相关知识024腔体漏气相关知识025金属铝钛方块电阻相关知识026金属铝钛膜厚相关知识027成膜工艺基础知识028成膜异常玻璃基板的处理方法3、成膜测试001膜厚、方块电阻、图像等测试设备的使用方法

5、002成膜工艺技术文件（二）图像曝光1、曝光准备001阵列曝光设备点检方法002阵列曝光机台的操作保养方法003阵列图像掩膜板更换方法004阵列产线介绍与说明005阵列产线的维修与停止006阵列设备静电的处理007阵列设备单元的分类介绍与说明008阵列产线化学品防护与异常009阵列机构上油说明OlO阵列曝光机规格和控制Oll阵列简易故障处理012阵列FiIter知识和更换要求013阵列清洗段工艺知识014阵列清洗破片及操作方法015管菌不良管理方法016阵列图像掩膜板清洗方法017阵列曝光工序生产管理基本概念及操作方法018阵列曝光设备基础维护技术019阵列曝光机启动与停止020阵列修补机单元

6、功能介绍021阵列TCU（温度控制机）单元功能介绍022阵列机构操作安全注意事项023阵列修补机单元报警说明与处理024阵列修补机单元参数调整025阵列主机台破片处理026阵列Gll世代线阵列机构说明027阵列维护与保养的方法028阵列机的操作029阵列自动机械手臂动作的操作2、涂胶、曝光、显影001阵列涂胶、曝光、显影工艺基础知识002阵列曝光原理及技术要求003阵列曝光工序规格返工操作方法004阵列光刻胶知识和操作005阵列显影液知识和变质反应006阵列显影液的浓度控制和回收007阵歹IJEUV/IUV工艺008阵列涂布显影段的清洗工艺和清洁处理009阵列烘烤工艺和影响010阵列涂胶段工艺

7、知识Oll阵列曝光段工艺知识012阵列显影段工艺知识013阵列温度控制系统的调整014阵列工艺参数的调整及影响015阵列图形异物的分析及影响016阵列色度不均的说明与处理017阵列涂布异常处理018阵列涂布稳定性的影响及调整019涂布涂膜效果的影响020涂布涂膜运行的影响021涂布涂膜方式和类型3、图像曝光效果测试001阵列曝光工序测试技术文件002阵列异物对图形的影响003阵列曝光异常玻璃基板的处理方法004阵列图形偏移005阵列图像异常的监控管理006阵列关键尺寸、宏观检查等测试设备的操作方法（三）玻璃基板蚀刻与剥离1、玻璃基板蚀刻001刻蚀工艺基础知识002刻蚀原理及技术文件003刻蚀设

8、备操作方法004刻蚀异常玻璃基板的处理方法005刻蚀基板传送006药液知识的说明007设备的点检与维护008蚀刻设备部件的更换009蚀刻设备作用2、剥离001剥离工艺基础知识002剥离原理及技术文件003剥离设备操作方法004剥离异常玻璃基板的处理方法005蚀刻等离子清洗/风刀作用006蚀刻机构的作用说明007蚀刻存在的伤害风险008剥离机构的作用说明009剥离存在的伤害风险010设备的点检与停止3、退火001退火工艺基础知识002退火原理及技术文件003退火设备操作方法004退火异常玻璃基板的处理方法005退火炉的操作006退火设备开门007退火设备加检项008退火设备相关参数液晶显示器件制

9、造工（液晶显示器件阵列制造工）（高级）理论知识评价要点注：根据国家职业技能标准，理论考试时间为90分钟，技能考试时间不少于200分钟。一、基本要求（权重比例20%）（一）职业道德1、职业道德基本知识001职业道德的基本内涵002设备文明程度体现方式003爱岗敬业的定义004职业道德的来源2、职业守则001诚实守信的定义002遵纪守法的基本要求003职业人格的定义004奉献社会定义005爱岗敬业的基本要求（二）基础知识1液晶显示器件基本知识001液晶的特性及种类用002液晶显示器的基本结构003液晶显示器的显示原理004液晶显示器件的种类005液晶显示器件的基本特性006液晶显示器件的主要材料0

10、07液晶显示器件的基础制造工艺008液晶显示器件制程不良的判定及预防方法2、净化技术基本知识001净化间的特点及净化级别002净化间的要求及规章制度3、职业卫生及安全生产知识001设备安全操作规程002净化环境作业的安全操作规程003材料使用安全知识004化学品使用安全知识005职业卫生要求4、质量管理知识001净化环境作业的安全操作规程002质量管理的法规与方法5、环境保护知识001生产废液或气体的排放与处理规则002固体废弃物的处理规则6、相关法律、法规知识001中华人民共和国劳动法相关知识002中华人民共和国劳动合同法相关知识003中华人民共和国安全生产法相关知识二、相关知识要求（权重比

11、例80%）（一）玻璃基板清洗与成膜1、清洗001镀膜前清洗水残留处理002清洗工艺知识003清洗工序生产管理基本概念及操作方法2、成膜001工作气体氨气相关知识002钥铜中铝的作用003铝钛中铝的作用（）04铝铜中铝的膜厚005铝铜中铜的膜厚006铝钛的方块电阻007铝铜的方块电阻008氧化钢锡成膜暖机的作用009氮化硅成膜暖机的作用OlO金属线暖机Oll氧化锢锡线暖机012氮化硅线暖机013金属控片监控项目014氧化锢锡控片监控项目015氮化硅控片监控项目016金属破片监控项目017氧化钢锡破片监控项目018氮化硅破片监控项目019金属光学缺陷超规格确认项目020氧化锢锡光学缺陷超规格确认项

12、目021氮化硅光学缺陷超规格确认项目022氧化锢锡方块电阻超规格确认项目023氮化硅膜厚超规格线处理024氧化钢锡膜厚超产品规格线处理025氧化锢锡方块电阻超产品规格线处理026源极铜厚超产品规格线处理027阀极铜厚超产品规格线处理028源极铜方块电阻超产品规格线处理029阀极铜方块电阻超产品规格线处理03()成膜工艺知识031成膜工序生产管理基本概念及操作方法032成膜设备基础维护技术文件(二)图像曝光1、曝光准备001阵列曝光工序生产管理基本概念002003004005006007008009010Oil012013014015016017018019020021022023阵列曝光工序的

13、生产安全要求阵列曝光工序操作方法阵列曝光设备基础维护技术文件阵列曝光设备安全知识阵列曝光设备组成单元介绍阵列设备点检内容阵列设备故障处理阵列设备静电知识阵列涂胶设备保养清洁方法阵列Filter（过滤器）介绍阵列显影回收系统介绍阵列涂布前清洗工艺阵列图像掩膜板设计知识阵列图像掩膜板清洗知识阵列图像掩膜板异常种类及不良的影响阵列耗材相关的知识阵列清洗段工艺知识阵列清洗破片及操作方法管菌不良管理方法阵列图像掩膜板清洗方法阵列自动机械手臂动作的操作阵列曝光设备基础维护技术2、涂胶、曝光OOl阵列EUV和IUV工艺002阵列涂布显影工艺知识003阵列光刻胶知识介绍004阵列光刻胶包装知识005阵列光刻胶

14、的真空干燥006阵列光刻胶烘烤工艺007阵列曝光5Mask工艺知识()08阵列曝光4Mask工艺知识009阵列曝光机结构介绍()10阵列曝光机光源介绍Oll阵列曝光参数对光刻胶的影响012阵列打码工艺介绍013阵列周边曝光工艺介绍014阵列显影工艺知识015阵列显影液介绍016阵列OVEN设备工艺介绍017阵列图像设计工艺知识018阵列工艺管控知识019阵列图像曝光异常的性质、种类、次性不良处理及预防方法020阵列破片处理021阵列曝光工序测试标准及要求022阵列异常产品的处理023阵列曝光工艺的调整024阵列涂胶段工艺知识025阵列曝光段工艺知识026阵列显影段工艺知识027阵列温度控制系统的调整028阵列工艺参数的调整及影响029阵列MUra的说明与处理030阵列涂布异常处理031阵列涂布稳定性的影响及调整032涂布涂膜效果的影响（三）玻璃基板蚀