膜厚标准样片定值计量技术规范.docx
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1、湖北省计量技术规范X氧化层膜厚标准样片校准规范OxideFiImThicknessStandardSampIeCalibrationSpecification(报批稿) X实施X发布XXXXXXXX发布-氧化层膜厚标准样片校准规范Oxide FiIm Thickness Standard Samp Ie Calibrat ionSpecificaion主要起草单位:中国船舶集团第七。九研究所主要起草单位:中国船舶集团第七。九研究所本规程主要起草人:罗锦晖(中国船舶集团第七。九研究所)薄涛(中国船舶集团第七。九研究所)熊碱(中国船舶集团第七。九研究所)张骋(中国船舶集团第七。九研究所)T超(中国
2、船舶集团第七。九研究所)郑锋(中国船舶集团第七O九研究所)目录引言II2引用文件13术语和计量单位13.1 膜厚标准样片13.2 标准样片13.3 薄膜厚度14概述141J占I14.2用途15 计量特性26 26.1 环境条件26.2 测量标准及其他设备27 校项目和校准方37.1 校准项目37.2 校准方法38校准结果表达39校准周期4附录A5附录B10附录C11引言本规范的编制依据JJFlO71-2010国家计量校准规范编写规则、JJF1001-2011通用计量术语及定义、JJF1059.1-2012测量不确定度评定与表示编制。氧化层膜厚标准样片校准规范1范围本规范规定了厚度在IOnmTO
3、OOnm之间的氧化层膜厚标准样片的校准。2引用文件本规范引用了下列文件:20213060-T-604纳米几何量标准样板测试方法GB/T39516-2020微纳米标准样板(几何量)凡是注日期的引用文件,仅注口期的版本适用于本规范;凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用本规范。3术语和计量单位JJFl005界定的下列术语和定义适用于本规范。3.1 膜厚标准样片filmthicknessstandardsample具有膜厚特征结构的,可用于微纳米几何量测量的标准样片。3.2 标准样片standardsample又称标准样板,具有典型特征的,提供一个或多个标准值的实物样片。3.3
4、薄膜厚度filmthickness由基底表面和生长层薄膜表面所确定的厚度量值。注:膜厚示意图见图1所示。生长层薄膜I丁罂%基底图1膜厚示意图4概述4.1 原理膜厚标准样片(以下简称标准样片)是针对集成电路工艺参数测量设备,通过复现集成电路关键尺寸量值,通过椭偏仪进行测量,在实际工作状态下对椭偏仪完成校准。4.2 用途标准样片是具备一个或多个典型值的专用标准样品,通过校准后主要用于椭偏仪的校准、实验室比对和能力验证等。5计量特性5.1标准样片厚度的测量范围厚度的测量范围为IOnm1000nm05.2标准样片的厚度标称值标准样片的厚度为离散值,具体值依据标准样片的型号而定。标准样片的计量特性见下表
5、。表1标准样片计量特性厚度标称值最大允许误差IOnm士Inm20nm士Inm50nmi2nm100nm3nm200nm6nm5OOnm士15nm100Onm30nm注:标准样片的标准值和测量不确定度以最终校准结果赋值为准。5.3标准样片应具备的参数及性能要求5.3.1标准样片膜厚实际值与标称值的最大允许偏差应在20%以内。5.3.2标准样片膜厚的年稳定性应在2%以内。注:以上技术指标不做合格性判别,仅提供参考。6校准条件6.1 环境条件环境条件及其要求如下:a)环境温度:(20土3);b)相对湿度:40%65%;6.2 测量标准及其他设备测量用标准设备应经过法定计量技术机构检定或校准,满足校准
6、使用要求,并在有效期内。a)X射线衍射仪:1)最大功率:3kW;最大管压:60kV;最大管流:60mA;2)测角仪:扫描方式为。/29,角度重现性为0.0001。b)计量型椭偏仪:1)膜层厚度:0.1nm50m,不确定度1%;2)光谱范围190nm2100nm07校准项目和校准方法7.1 校准项目标准样片的校准项目见表2。表2校准项目一览表序号校准项目校准方法条款i7.2.17.2 校准方法7.2.1 膜厚a)采用如图2所示方式将标准样片安放在X射线衍射仪载物台上,X射线衍射仪在测量标准样片时,光源发出出射光以一定入射角度打在被测样片表面上发生反射至探测器,根据反射光偏振态的变化及入射角反推被
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- 关 键 词:
- 标准 样片 计量 技术规范
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