碳化硅产业链深度解析.docx
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1、半导体产业的基石是芯片,制作芯片的核心材料按照历史进程分为:第一代半导体材料(大部分为目前广泛使用的高纯度硅),第二代化合物半导体材料(耐1化镂、磷化锢),第三代化合物半导体材料以碳化硅和氮化钱为代表。第二代第一代神化像半导体碳化硅是第三代半导体产业发展的重要基础材料,碳化硅功率器件以其优异的耐高压、耐高温、低损耗等性能,能够有效满足电力电子系统的高效率、小型化和轻量化要求。在新能源汽车、光伏发电、轨道交通、智能电网等领域具有明显优势。因其优越的物理性能:高禁带宽度(对应高击穿电场和高功率密度)、高电导率、高热导率,有望成为未来最被广泛使用的制作半导体芯片的基础材料。12t000010.000
2、0S.00006.0000近年来新能源汽车驱动碳化硅行业高速成长,较传统的燃油汽车相比,新能源汽车半导体元器件功率更大,性能要求更高,用量几倍于传统燃油汽车。根据现有技术方案,每辆新能源汽车使用的功率器件价值约700美元到IOoO美元。随着新能源汽车的发展,对功率器件需求量日益增加,成为功率半导体器件新的增长点。使用碳化硅衬底材料,为新能源汽车节省大量成本。半导体芯片分为集成电路和分立器件,但不论是集成电路还是分立器件,其基本结构都可划分为“衬底-外延-器件”结构。碳化硅产业链也可分为三个环节:分别是上游衬底,中游外延片和下游器件制造。碳化硅上游晶片及器件生产国外龙头维持领先,国产J晶片外延碳
3、化硅晶片半绝缘型天科合达IankeblueDI女宣光CENGOLSICCeROHmSaMlCONOUCTORHVI氮化钱外延CRROHmBetlicOMOUCTOItCREEeTOSHIB资料来源:天科合达招股说明书,Yole,中信证券研究部图表来源:中信证券碳化硅在半导体中存在的主要形式是作为衬底材料。碳化硅晶片作为半导体衬底材料,长晶难度大,技术壁垒高,毛利率可达50%左右。已已经过外延生长、器件制造等环节,可制成碳化硅基功率器件和微波射频器件。晶片尺寸越大,对应晶体的生长与加工技术难度越大。碳化硅晶片产业链:图表来源:天科合达招股说明书衬底常用LeIy法制造,国际主流采用6英寸晶圆,正向
4、8英寸晶圆过渡;国内衬底以4英寸为主,主要用于IOA以下小电流产品。全球碳化硅市场呈现寡头垄断局面,欧美日企业领先美国全球独大,全球SiC产量的70%80%来自美国公司。海外碳化硅单晶衬底企业主要有Cree、DoWCorning、SiCrystaLII-VI、新日铁住金、NorSteI等。其中CREE.II-VI等国际龙头企业已开始投资建设8英寸碳化硅晶片生产线。国内企业也在积极研发和探索碳化硅器件的产业化,已经形成相对完整的碳化硅产业链体系。中国企业在单晶衬底方面以4英寸为主,目前已经开发出了6英寸导电性SiC衬底和高纯半绝缘SiC衬底。以天科合达和山东天岳为主的SiC晶片厂商发展速度较快,
5、市占率提升明显。三安光电在SiC方面也在深度布局。山东天岳、天科合达、河北同光、中科节能均已完成6英寸衬底的研发,中电科装备研制出6英寸半绝缘衬底。华润微拥有3条6英寸产线和一条正在建设的12英寸产线,并拥有国内首条实现商用量产的6英寸碳化硅晶圆生产线。露笑科技2020年引进碳化硅重磅研发团队并联合合肥政府共同投资碳化硅。外延常用PECVD法制造。国外外延片企业主要有DoWCorning、II-VI、NorsteUCREE、罗姆、三菱电机、英飞凌等;器件方面相关主要企业包括英飞凌、CREE、罗姆、意法半导体等。国内从事外延片生长的企业包括厦门瀚天天成和东莞天域半导体等;从事碳化硅器件设计制造的
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